中文版ENGLISH日本語DeutschFrench
产品服务

设备及耗材


HLSP-A01平面研磨抛光机


      我们为有需要材料加工的实验室提供全套研磨、抛光解决方案。整套系统包含设备、配套功能模块、加工工艺及特殊治具,以及零部件、耗材后续供应、技术支持等服务。专门为实验室开发的HLSP-A01平面研磨抛光机体积小,自动化控制,功能集成化高,可根据客户需要调整功能模块,通过更换夹具、耗材可用于2-8英寸各种材料(包括多种硬脆材料)的研磨、抛光,抛光精度高,产品各项参数优秀,非常适合配套给科研院所及学校实验室使用,其采购价格较同类进口设备有优势,且在使用、维护方面更加灵活便利。



设备参数

电源:380V/10A/50Hz

磨盘盘转速:10-100rpm

磨盘盘直径:460mm, 500mm, 520mm

最小加工压力:0.2kg

最大加工压力:80kg

长度:1800mm

宽度:1150mm

高度:1950mm

重量:1100kg

最小供液流速:0.29ml/min

最大供液流速:5000ml/min

真空流量:60L/min

精密夹具:3寸,4寸,5寸,6




* 适用1-8英寸晶元,双工位单片加工小批量晶元。

* 配合非标夹具,加工各种非标尺寸产品。 

* 可选配铸铁盘、铜盘、锡盘、陶瓷盘、聚氨酯、无纺布、阻尼布等不同磨抛盘,提供工艺灵活性,集CMP磨抛与物理磨抛工艺于一体。

* 空间占用小,封闭加工环境,集研磨、抛光功能于一体。

* 集成修盘模块。

* 多通道供液模块,可将多种溶液合并到工艺配方中,亦可选择循环、蠕动、喷射等不同搭配形式。

* 盘面自动冲洗,磨盘界面温度实时监控。

* 磨抛盘、工件盘独立驱动,转速任意调节。

* 主要部件密封及防腐,适用于强腐蚀加工。

* 特殊的磨抛轨迹,可用于高面型光学加工。



  主要系统模块  

研磨液供液系统 
抛光液供液系统
抛光盘基座
搅拌桶
冷水机
盘型平整度测量仪

  磨抛耗材  

研磨、抛光盘
研磨、抛光液
高精度陶瓷载盘,及配套陶瓷挡圈
丸片修整轮
精密夹具,含配套用夹具倒置装置、压力量测装置、

好利旺真空泵、过滤。




适用材料








返回
| 查看次数:

碳化硅晶片

单晶硅产品

联系我们

地址:江苏省江阴市果园路12号
电话:+86-510-8639-2762
手机:+86-13771298081
传真:+86-510-8639-2762
E-mail:edytian@helioswafer.com
联系人:田睿 业务经理

版权所有 © 2013-2019  江阴皓睿光电新材料有限公司  苏ICP备14037657号  
江阴网站建设江阴联创